個(gè)人信息：
姓名：朱宏喜
性別：男
學(xué)歷：研究生 學(xué)位：博士
專業(yè)：材料學(xué)
E-mail：zhuhx2004@126.com

個(gè)人簡(jiǎn)介：
朱宏喜，男，1976年8月生，講師、博士。1999年畢業(yè)于太原重型機(jī)械學(xué)院，獲材料學(xué)專業(yè)學(xué)士學(xué)位，2002年畢業(yè)于太原重型機(jī)械學(xué)院，獲得材料加工工程專業(yè)碩士學(xué)位，2007年4月在北京科技大學(xué)獲得博士學(xué)位?，F(xiàn)任材料科學(xué)與工程學(xué)院教師。從事鋁硅合金和薄膜材料的研究。

成果：
主要從事材料織構(gòu)、應(yīng)力和性能方面的研究。作為主要完成人，參與了國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目《CVD金剛石薄膜宏觀織構(gòu)和殘余應(yīng)力的研究（50372007）》的研究。在《材料研究學(xué)報(bào)》、《無機(jī)材料學(xué)報(bào)》以及《物理學(xué)報(bào)》等期刊共發(fā)表文章14篇，其中被EI收錄5篇。

發(fā)表的主要文章：
朱宏喜，毛衛(wèi)民，馮惠平等. 織構(gòu)對(duì)CVD自支撐金剛石薄膜宏觀殘余應(yīng)變的影響. 材料研究學(xué)報(bào)，2007，21（1）：32～36.
朱宏喜，毛衛(wèi)民，馮惠平，呂反修，I.I.Vlasov，V.G. Ralchenko，A.V. Khomich.甲烷濃度對(duì)CVD金剛石薄膜晶體學(xué)生長(zhǎng)過程的影響. 無機(jī)材料學(xué)報(bào)，2007，22（3）：570～576.（EI收錄號(hào)：072510662885）
朱宏喜，毛衛(wèi)民，馮惠平. CVD金剛石薄膜孿晶形成的原子機(jī)制分析.物理學(xué)報(bào)，2007，56（7）：4049～4055.（EI收錄號(hào)：073210756472）

研究方向：
1．薄膜材料的宏觀織構(gòu)和應(yīng)力研究；
2．鋁硅合金材料性能研究。

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