上海交通大學物理與天文學院導師：王長順

發(fā)布時間：2021-10-09 編輯：考研派小莉 推薦訪問：
上海交通大學物理與天文學院導師：王長順

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上海交通大學物理與天文學院導師：王長順 正文

　　王長順教授

　　研究機構光科學與技術研究所

　　研究領域光學信息存儲、有機聚合物材料非線性光學、同步輻射刻蝕

　　辦公地點物理樓703

　　辦公電話86-21-54742203

　　電子郵箱cswang@sjtu.edu.cn

　　簡歷

　　王長順，1965年1月出生，上海交通大學物理系教授、博士生導師。1999年6月在吉林大學物理系獲得博士學位，2001年5月至2003年3月在日本分子科學研究所作訪問學者?？蒲猩现饕獜氖鹿鈱W信息存儲、有機聚合物材料非線性光學、同步輻射刻蝕等方面的研究。

　　主要著作

  1. Area-Selective Deposition of Self-assembled Monolayers On Patterned SiO2/Si Surfaces, Lecture Notes in Nanoscale Science and Technology Vol. 5, Toward Functional Nanomaterials, Chapter 11, Wang, Zhiming M., Springer, 2009 
  2. Photoinduced anisotropy and polarization holography in a stilbene-containing fluorinated polyimide, Optics Letters, 34 (5), 665-667, 2009
  3. The nonlinear optical properties and photoinduced anisotropy of a novel stilbene-containing fluorinated polyimide, Dyes and Pigments, 82, 47-52, 2009 
  4. The nonlinear optical property and photoinduced anisotropy of a newly synthesized fluorine-containing azo side-chain polyimide, Applied Physics B, 94 (4), 653, 2009
  5. Nonlinear optical response of Au and Ag nanoparticles doped polyvinylpyrrolidone thin films, Physics Letters A, 373, 592-595, 2009
  6. Photoinduced anisotropy in an azo-containing ionic liquid-crystalline polymer, Optics Communications, 282 (5), 763-768, 2009
  7. Image storage based on circular-polarization holography in an azobenzene side-chain liquid-crystalline polymer, Applied Optics, 47 (1), 93-98, 2008
  8. The study on the nonlinear optical response of Sudan I, Optics Communications, 281 (15-16), 4121-4125, 2008
  9. Study on the nonlinear optical properties of three azo dyes by Z-scan measurements, Journal of Modern Optics, 55, 3013-3020. 2008
  10. Polarization holographic gratings in an azobenzene side-chain liquid-crystalline polymer, Appl. Phys. B 86 (4), 693-697, 2007
  11. Synchrotron radiation stimulated etching of SiO2 thin films with a tungsten nano-pillar mask, J. Synchrotron Rad. 13, 432-434, 2006
  12. Area-selective deposition of self-assembled monolayers on SiO2/Si (100) patterns, Appl. Phys. Lett. 89, 233105, 2006
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